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UNH-IOL与武汉光电国家研究中心、光电工研院共同举办NVMe交互性测试活动

来源:武汉光电工业技术研究院有限公司    作者:    发布时间:2018年07月24日

        7月23日上午,由美国新罕布什尔大学IOL实验室(UNH-IOL)、华中科技大学武汉光电国家研究中心、武汉光电工业技术研究院有限公司共同举办的NVMe交互性测试活动在武汉光电国家研究中心开幕。新罕布什尔大学IOL实验室高级工程师David Woolf与武汉光电国家研究中心吴非老师交换了合作备忘录,标志着双方正式启动合作。武汉光电国家研究中心副主任朱䒟、教授谢长生,武汉光电工研院总经理韩道、副总经理孙文娟出席。

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        本次活动为期四天,来自UNH-IOL的工程师将与武汉光电国家研究中心的师生合作,为参加此次活动的企业提供NVMe互操作性和一致性测试服务,快速测试产品在跨平台、驱动及硬件平台多样性的服务能力,验证产品的可用性和鲁棒性。

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        此次备忘录的签署将作为今后开启全面合作的基础。美国UNH-IOL和武汉光电国家研究中心将以此次活动为契机,逐渐将UNH-IOL的第三方测试服务引入中国。光电工研院将积极整合光电子信息存储产业链需求和市场资源,与UNH-IOL和武汉光电国家研究中心的技术资源和测试服务解决方案进行对接,推动湖北搭建具有国际一流水准的配套服务平台。